Vakuumtehnoloģisko procesu izstrāde caurspīdīgu elektrovadošu slāņu ar noteiktām īpašībām iegūšanai

Abstract

Plānu pārklājumu uzklāšana uz dažādiem izstrādājumiem tiek izmantota daudzās tehnikas nozarēs. Magnetronā uzputināšanas metode vakuumā ir viena no populārākajām. Plānu pusvadītāju uznešanas jomā perspektīvākie ir caurspīdīgie, elektrību vadošie oksīdi (TCO) uz metāla bāzes. Ar alumīniju leģētais cinka oksīds (AZO) ir alternatīva dārgajam ar alvu leģētajam indija oksīdam (ITO). Labus rezultātus var sasniegt, izputinot oksīdu no keramiska mērķa, bet tie ir dārgi, tādēļ tiks attīstīta tehnoloģija, kurā izmanto metāla mērķi un reaktīvu gāzi, kas padara procesu lētāku. Mērķis ir izveidot tehnoloģiju, ar ko var iegūt AZO ar labām elektriskām un optiskām īpašībām. Procesa vadīšana notiks ar plazmas optisko diagnostiku, meklējot optimālās gāzu emisijas spektrāllīniju intensitāšu attiecības.

Thin film coating on various products is used in many areas of technology. Magnetron sputtering in vacuum is one of the most popular. Transparent conductive oxides (TCO) based on metal are most perspective thin semiconductor covering. Aluminium dopped zinc oxide (AZO) is alternative for expensive tin dopped indium oxide (ITO). Good results can be achieved sputtering oxide from the ceramic target, but these targets are expensive. Therefore, will develop technology using cheaper metallic target and reactive gas. The aim is to develop technology which obtaining AZO with good electrical and optical properties. Managing the process will take place in the plasma optical diagnostics, searching for the optimal gas emission spectral intensity ratio.