Hologrāfiskais ieraksts organiskajos un neorganiskajos savienojumos ar UV lāzeriem
Zusammenfassung
Darbā tika pētīta virsmas reljefa veidošanās hologrāfiskā ieraksta laikā organiskajos polimēros un to kompozītos ar ar neorganisko polimēru As2S3. Hologrāfiskajam ierakstam tika izmantots He-Cd lāzers ar 325 nm viļņa garumu, un nolasīšanai- diodes lāzeri ar 405 un 532 nm viļņu garumiem. Organiskā polimēra PMMA plānajās kārtiņās tika pētīta difrakcijas efektivitāte ieraksta laikā atkarībā no polarizācijas un PMMA polimerizācijas pakāpes. Labākie rezultāti tika iegūti ar horizontālo (pp) polarizāciju abos staros materiālos ar mazāku polimerizācijas pakāpi.
As2S3 – Disperbyk161 polimēru plānajās kārtiņas difrakcijas efektivitātes ieraksta laikā ir atkarīga no abu polimēru masas daļas paraugā. Labāki rezultāti tika iegūti pie lielākām As2S3 koncentrācijām. The formation of surface relief holographic gratings in organic and inorganic polymers compound was studied. He-Cd laser 325 nm line was used as recording beam, but as readout beam - low power 405 and 532 nm diode lasers. The dependance of surface relief formation efficiency on polarization state of recording beams and polymerization index in organic polymer PMMA was studied. The best results were obtained with pp polarized recording light and low polymerized PMMA.
The difraction efficiency in As2S3 – Disperbyk161 composite thin films depends on relationship between both polymers. The best results were obtained in the films with higher As2S3 content.