ZnO plāno kārtiņu izgatavošana pie zemām temperatūrām ar reaktīvo magnetrono izputināšanas metodi un to raksturošana

Abstract

Darbā tika izgatavotas cinka oksīda (ZnO) plānās kārtiņas ar reaktīvo magnetrono izputināšanas metodi pie zemām temperatūrām. Šim nolūkam vakuuma iekārta tika aprīkota ar dzesētāju. Paraugu struktūra tika pētīta ar XRD, FTIR spektroskopiju, tika mērīta gaismas absorbcija. Iegūtie mērījumu dati tika analizēti atkarībā no dažādiem parametriem (temperatūra, kārtiņas biezums, u.c.). Rezultāti tika salīdzināti ar ZnO plānajām kārtiņām, kas izgatavotas bez pamatnes dzesēšanas, kā arī pie paaugstinātas temperatūras. Literatūrā nav viennozīmīgas informācijas par amorfu ZnO plāno kārtiņu īpašībām, kamēr kristāliska ZnO plānās kārtiņas ir plaši izpētītas. Līdz ar to amorfu ZnO kārtiņu izgatavošana ar reaktīvo magnetrono izputināšanas metodi būtu novitāte plāno kārtiņu nozarē, un to iegūšana pavērtu iespējas tālākiem eksperimentālajiem pētījumiem.

In this study zinc oxide (ZnO) thin films were deposited at low temperatures by reactive DC magnetron sputtering. Vacuum chamber was equipped with a handmade cooling unit. The structure of the samples was studied by XRD, FTIR and the optical absorption was measured. The results of the measurements were analyzed as a function of deposition parameters - temperature, layer thickness etc. Results was compared to the ZnO thin films without cooling, and at elevated temperature. There is no unambiguous information about the structural and optical properties of the amorphous ZnO films, while crystalline ZnO films are widely studied in the literature. Consequently, the deposition of the amorphous ZnO layer by reactive magnetron sputtering is novelty of the thin films industry, and the acquisition would provide an opportunity for further experimental studies.