SiO2 stikla virsmas parametru mērījumi ar mikroskopijas metodēm - Gavars, Eduards (Latvijas Universitāte, 2011)
Šajā bakalaura darbā tiek pētīta dažādu apstrādes veidu ietekme uz SiO2 stikla virsmu. Tika ņemtas piecas dažādi apstrādātas augstfrekveņču bezelektrodu lampas. Pirmā lampa bija bez jebkādas apstrādes, otra un trešā tika ķīmiski apstrādātas ar tekilu un spirtu, ceturtā un piektā tika apstrādātas ar Ar un Se, un Ar un As plazmu. No lampām tika iegūti stikla virsmas paraugi. Attiecīgi to virsmas tika pētītas ar atomspēku mikroskopu (AFM) un rezultāti apstrādāti ar datu apstrādes programmatūru. Rezultātā tika iegūti dati par piecu dažādu apstrādes veidu ietekmi uz stikla virsmu un tās parametriem. Mērījumus ir iespējams apskatīties 2D, 3D un tabulas veidā ar raksturīgajiem parametriem. Būtiskākais secinājums- ka katrs apstrādes veids virsmu ietekmē citādāk.

In this BSc thesis I am researching how different type of treatment changes surface of SiO2 glass. There were five differently treated high-frequency electrodeless light sources. First one was without treatment, second and third lamp was chemically treated with tequila and alcohol, fourth and fifth was treated with Ar and Se, and Ar and As plasma. To explore surface of those lamps, it was necessary to obtain glass samples. Then those samples were measured by atomic force microscope and processed with analytical data program. In the end I got results about five differently treated SiO2 glass surfaces. It is possible to see those results in 2D, 3D or in table with characteristic parameters. The main conclusion in my opinion is- every treatment method changes surface and its characteristics.
Measurements of SiO2 glass surface parameters by microscopy methods
Keywords: Fizika