Show simple item record

dc.contributor.advisorKleperis, Jānisen_US
dc.contributor.authorBergmane, Jeļenaen_US
dc.contributor.otherLatvijas Universitāte. Fizikas un matemātikas fakultāteen_US
dc.date.accessioned2015-03-24T06:43:03Z
dc.date.available2015-03-24T06:43:03Z
dc.date.issued2013en_US
dc.identifier.other34138en_US
dc.identifier.urihttps://dspace.lu.lv/dspace/handle/7/16246
dc.description.abstractDarbā pētītas ar PCVD metodi iegūtas plānas amorfā silīcija kārtiņas bez piemaisījumiem, un ar n- un p-tipa vadāmību veidojošiem piemaisījumiem. Noteiktas to elektriskās, fotoelektriskās un optiskās īpašības pirms un pēc rekristalizācijas. No redzamās gaismas absorbcijas spektriem noteikta absorbcijas mala. Iepriekšējie pētījumi rāda, ka absorbcijas mala ir atkarīga no paraugu iegūšanas apstākliem, kā arī izkarsēšanas (kristalizācijas) un mainās plašās robežās – no 0,8 – 1,8 eV. Uzskata, ka kristalizācijai raksturīga malas sarkana nobīde ( uz mazākām enerģijām). Mūsu iegūtām amorfajām silīcija kārtiņām netiešo pāreju absorbcijas mala ir intervāla 1,5 - 2,1 eV. Fotoelektroķīmisko īpašību pētīšanai kārtiņas tiek nestas uz caurspīdīgas vadošas ITO pamatnes. Rekristalizācija veikta ar impulsu lāzera palīdzību, izkarsēšanu krāsnī, baltās gaismas impulsu lampu. Salīdzinātas elektrisko, fotoelektrisko un optisko īpašību izmaiņas amorfām un rekristalizētām kārtiņām.en_US
dc.description.abstractAmorphus silicon thin films otained by the PVCD method without impurities, and with impurities forming the n-and p-type conductivities are studied in this work. Elektrical, optical and photoelectric properties before and after crystallization are measured. From the visible light absorption spectra the absorbtion edge is determinate. Previous studies have shown that the absorption edge of amorphous silicon changes over a wide range – from 0,8 - 1,8 eV and is dependent on the sample preparations and annealing. It is considered that thecrystalization leads to characteristic red shift of absorption edge ( to lov energies). We find inderect transition absorption edge of amorphous silicon thin films in the range from 1,5 – 2,11 eV in dependence from evaporation conditions. Somples for photo-electric investigations are sputtered on transparent conducting ITO subtrates. Crystalization of thin amorphous films is carried by methods- pulse laser, and intense white light pulse tube. Electric,en_US
dc.language.isoN/Aen_US
dc.publisherLatvijas Universitāteen_US
dc.rightsinfo:eu-repo/semantics/openAccessen_US
dc.subjectFizikaen_US
dc.titleAmorfu un rekristalizētu amorfa silīcija plāno kārtiņu optisko un elektrofizikālo īpašību pētījumien_US
dc.title.alternativeResearch of optical and electrophysical properties of amorphous and crystallized silicon thin filmsen_US
dc.typeinfo:eu-repo/semantics/masterThesisen_US


Files in this item

Thumbnail

This item appears in the following Collection(s)

Show simple item record