Show simple item record

dc.contributor.advisorPurāns, Jurisen_US
dc.contributor.authorZubkins, Mārtiņšen_US
dc.contributor.otherLatvijas Universitāte. Fizikas un matemātikas fakultāteen_US
dc.date.accessioned2015-03-24T08:01:26Z
dc.date.available2015-03-24T08:01:26Z
dc.date.issued2013en_US
dc.identifier.other24244en_US
dc.identifier.urihttps://dspace.lu.lv/dspace/handle/7/21650
dc.description.abstractPārklājumi uz cinka oksīda bāzes ir caurspīdīgi, elektrovadoši materiāli. Visbiežāk lietotais caurspīdīgais, elektrovadošais oksīds (TCO) optiskā elektronikā ir indija alvas oksīds (ITO), kuram strauji pieaug tirgus cena. Ar alumīniju leģēts cinka oksīds (AZO) ir potenciāli labākais ITO aizstājējs, tomēr tas vēl nav sasniedzis ITO raksturīgās īpašības. Papildus problēma optiskās elektronikas attīstībā ir p-tipa TCO trūkums. Darba mērķis bija izpētīt AZO un Zn-Ir-O pārklājumu strukturālās, optiskās un elektriskās īpašības atkarībā no izgatavošanas parametriem. AZO ir n-tipa vadītājs, bet Zn-Ir-O tiek pētīts kā potenciāls p-tipa vadītājs. Pārklājumu iegūšanai tika izmantota reaktīvā līdzstrāvas magnetrona izputināšanas metode. Izgatavošanas parametri ietekmē pārklājumu struktūru, tādējādi ietekmējot gan elektriskās, gan optiskās īpašības.en_US
dc.description.abstractThin films based on zinc oxide are transparent conductive materials. The most used transparent conductive oxide (TCO) in the optoelectronics is indium tin oxide (ITO). Increasing price of ITO stimulates the development of new TCO materials. Aluminium doped ZnO (AZO) is the most promising alternative to ITO. However, up to now AZO has not reached the ITO performance. Lack of p-type TCO is another obstacle for the development of optoelectronics. The aim of this study was to investigate structural, electrical and optical properties of AZO and Zn-Ir-O thin films and their dependence on the deposition parameters. AZO is n-type conductor, but Zn-Ir-O is being studied as a potential p-type conductor. Reactive DC magnetron sputtering was used for thin films deposition. Deposition parameters have major impact on film structure, thus on it electrical and optical properties.en_US
dc.language.isoN/Aen_US
dc.publisherLatvijas Universitāteen_US
dc.rightsinfo:eu-repo/semantics/openAccessen_US
dc.subjectFizikaen_US
dc.titleMagnetronu uzputināšanas procesu izstrāde p un n tipa caurspīdīgu, elektrovadošu slāņu iegūšanai uz ZnO bāzesen_US
dc.title.alternativeDevelopment of magnetron sputtering process for p and n type transparent conducting coatings based on ZnOen_US
dc.typeinfo:eu-repo/semantics/masterThesisen_US


Files in this item

Thumbnail

This item appears in the following Collection(s)

Show simple item record