Ar ALD tehnoloģiju uzklātu ZnO nanoslāņu struktūra un optiskās īpašības

Abstract

Darbā tiek pētīta struktūra un optiskie parametri četriem cinka oksīda plāno kārtiņu paraugiem ar dažādiem biezumiem. Tie tika iegūti ar ALD (atomic layer deposition) metodi, kas ļauj iegūt konformālas plānās kārtiņas uz praktiski jebkuras pamatnes. Būtiskākie plāno kārtiņu parametri, kas tika noteikti ar dažādām metodēm ir biezums, ķīmiskais sastāvs, caurlaidība un fotoluminescence. Galvenais darba uzdevums ir noteikt saistību starp struktūras un optiskajiem parametriem, kas ļauj turpmāk precīzi zināt, kāda struktūra jāizveido, lai iegūtu vajadzīgās optiskās īpašības.

In this work the structure and optical properties of four samples of zinc oxide thin films with different thicknesses is studied. The thin films were deposited with ALD (atomic layer deposition) method, which allows creating conformal thin films on almost any substrate. The most noteworthy parameters of the thin films that were determined using different methods are thickness, chemical composition, transmittance and photoluminescence. The main idea of this work is to find relation between structural and optical parameters that would give the knowledge what structure has to be created in order to get specific optical properties.