Augsti jonizētas pulsējošas plazmas magnetrono izputināšanas procesu izstrāde volframa oksīdu plāno kārtiņu iegūšanai

Abstract

Elektrohromie materiāli spēj mainīt krāsu, elektrohromajai šūnai pieliekot elektrisko spriegumu. Šī īpašība ir ar plašu pielietojumu klāstu, piemēram, ēku energoefektivitātes uzlabošana, taču tie ir dārgi un daudzās jomās pagaidām ekonomiski neizdevīgi. Volframa trioksīda (WO3) plānās kārtiņas ir viens no visvairāk pētītajiem elektrohromajiem materiāliem. Darba mērķis bija izstrādāt augsti jonizētas pulsējošas plazmas magnetronās izputināšanas (HiPIMS) procesu volframa oksīdu plāno kārtiņu iegūšanai un salīdzināt tās ar plānajām kārtiņām, kas iegūtas ar līdzstrāvas magnetrona izputināšanas (DCMS) metodi. Izputināšanas režīms ietekmē gan izputināšanas ātrumu, gan plāno kāriņu elektrohromās īpašības. Šajā darbā līdzstrāvas režīmā uzputinātajām kārtiņām elektrohromās īpašības ir labākas un uzputināšanas ātrums lielāks, nekā HiPIMS režīmā uzputinātajām kārtiņām.

Electrochromic materiāls can change their color if electric voltage is applied to the electrochromic cell. This phenomenon has wide range of applications, for example, improve energy efficienty for building, although these materials are expensive and not cost-effective yet. Aim of this study was to develop tungsten oxide thin film deposition process by high power impulse magnetron sputtering (HiPIMS) and compare them to films, made by dc magnetron sputtering (DCMS) process. Tungsten trioxide is one of the most discussed electrochromic material. Sputtering mode has impact on deposition rate and thin film electrochromic properties. In present study properties of thin films sputtered in dc mode deposition rate is higher and electrochromic properties are better than films sputtered in HiPIMS mode.